Benzeneacetonitrile, 2-methyl-α-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienylidene]- CAS 852246-55-0; ChemWhat 코드 : 1415150
식별
| 제품명 | WI-PAG31704 |
| IUPAC 이름 | [[3-[시아노-(2-메틸페닐)메틸리덴]티오펜-2-일리덴]아미노] 프로판-1-설포네이트 |
| 분자 구조 |  |
| CAS 레지스트리 번호 | 852246-55-0 |
| 동의어 | 852246-55-0 벤젠아세토니트릴, 2-메틸-.알파.-[2-[[(프로필술포닐)옥시]이미노]-3(2H)-티에닐리덴]- 벤젠아세토니트릴,2-메틸-알파-[2-[[(프로필술포닐)옥시]이미노]-3(2H)-티에닐리덴]- DTXSID60889217 [[3-[시아노-(2-메틸페닐)메틸리덴]티오펜-2-일리덴]아미노] 프로판-1-설포네이트 [(Z)-[(3Z)-3-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] propane-1-sulfonate |
| 분자식 | C16H16N2O3S2 |
| 분자 무게 | 348.4 |
| InChI | InChI=1S/C16H16N2O3S2/c1-3-10-23(19,20)21-18-16-14(8-9-22-16)15(11-17)13-7-5-4-6-12(13)2/h4-9H,3,10H2,1-2H3 |
| InChI 키 | PYKXYIPEUCVBIB-UHFFFAOYSA-N |
| 이성질체 SMILES | CCCS(=O)(=O)ON=C1C(=C(C#N)C2=CC=CC=C2C)C=CS1 |
물리적 데이터
| 외관 | 황색 분말 |
| 청정 | 99.80 % 분 |
| 물 | ≤0.05 % |
| 금속이온(ppb) | AI : ≤100 CA : 200 이하 CR : ≤200 CU : 100 이하 FE : ≤200 K : 100 이하 MG : 100 이하 MN : 100 이하 NA : 200 이하 |
스펙트럼
| 설명 (UV / VIS 분광법) | 용매 (UV / VIS 분광법) |
| 스펙트럼 | 아세토 니트릴 |
Route of Synthesis (ROS)
자료 없음
안전과 위험
자료 없음
기타 데이터
| 운송 | 오랫동안 실온에 보관하세요. 밀봉하고 빛으로부터 멀리 |
| HS 코드 | |
| 스토리지 | 오랫동안 실온에 보관하세요. 밀봉하고 빛으로부터 멀리 |
| 유통 기한 | 1 년 |
| 약물 유사성 | |
| 리핀 스키 규칙 구성 요소 | |
| 분자 무게 | 348.447 |
| 로그P | 3.36 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| 리핑 스키 규칙 일치 | 4 |
| Veber 규칙 구성 요소 | |
| 극 표면적 (PSA) | 113.2 |
| 회전 가능 본드 (RotB) | 5 |
| 일치하는 Veber 규칙 | 2 |
| 패턴 사용 |
| 벤젠아세토니트릴, 2-메틸-α-[2-[[(프로필술포닐)옥시]이미노]-3(2H)-티에닐리덴]-은 OLED 및 기타 전자 분야에 사용될 수 있습니다. 그리고 자외선(UV) 빛에 대한 민감도를 높이기 위해 포토레지스트에 첨가됩니다. 레지스트가 UV 광에 노출되면 PAG 103은 산을 생성하여 포토레지스트 내에서 화학 반응을 시작합니다. UV 광선에 노출되면 PAG 103은 산을 생성합니다. 이 산은 포토레지스트 내에서 촉매 역할을 하여 가교, 중합 또는 분해와 같은 반응을 촉진합니다. UV 광선에 노출되면 PAG 103은 산을 생성합니다. 이 산은 포토레지스트 내에서 촉매 역할을 하여 가교, 중합 또는 분해와 같은 반응을 촉진합니다. |
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