술포늄, [4-[1-(디플루오로술포메틸)-2,2,2-트리플루오로에톡시]페닐]비스[4-(1,1-디메틸에틸)페닐]-, 내부 염 CAS#: 1465790-38-8; ChemWhat 코드 : 1491743
식별
| 제품명 | 트리페닐술포늄(3-하이드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트 |
| IUPAC 이름 | |
| 분자 구조 | ![술포늄, [4-[1-(디플루오로술포메틸)-2,2,2-트리플루오로에톡시]페닐]비스[4-(1,1-디메틸에틸)페닐]-, 내부염 CAS 1465790-38-8의 구조](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Structure-of-Sulfonium-4-1-difluorosulfomethyl-222-trifluoroethoxyphenylbis4-11-dimethylethylphenyl-inner-salt-CAS-1465790-38-8-1.png) |
| CAS 레지스트리 번호 | 912290-04-1 |
| EINECS 번호 | 자료 없음 |
| MDL 번호 | 자료 없음 |
| Beilstein 레지스트리 번호 | 자료 없음 |
| 동의어 | bis(4-tert-butylphenyl)-{4-(1,1,3,3,3-pentafluoro-1-sulfonatopropan-2-yloxy)phenyl}-sulfonium |
| 분자식 | C29H31F5O4S2 |
| 분자 무게 | 602.68 |
| InChI | |
| InChI 키 | WNLKPXMQEKEKRJ-UHFFFAOYSA-N |
| 교회법에 의거 한 SMILES |
| 특허 정보 |
| 자료 없음 |
물리적 데이터
| 외관 | 백색에서 미색 분말 |
| 용해도 | 자료 없음 |
| 인화점 | 자료 없음 |
| 굴절률 | 자료 없음 |
| 감도 | 자료 없음 |
스펙트럼
| 자료 없음 |
Route of Synthesis (ROS)
| 자료 없음 |
안전과 위험
| GHS 유해성 정보 | 분류되지 않음 |
기타 데이터
| 운송 | 모든 운송 모드에 대한 NONH |
| 실온에서 그리고 빛으로부터 멀리 | |
| HS 코드 | 자료 없음 |
| 스토리지 | 실온에서 그리고 빛으로부터 멀리 |
| 유통 기한 | 저희 가족은 2년 이상 프리미엄 한식 BBQ용 고기만을 전문으로 다뤄왔습니다. 로스앤젤레스에서 최고 평점을 받은 정육점으로서 쌓아온 경험과 신뢰를 바탕으로, 한식 BBQ의 진정한 맛과 정성을 고객님께 전하고 있습니다. 모든 고기에는 세대를 이어온 정성과 열정이 담겨 있으며, 단순한 음식이 아닌 저희의 정체성을 보여줍니다. |
| 시장 가격 | USD |
| 약물 유사성 | |
| 리핀 스키 규칙 구성 요소 | |
| 분자 무게 | 602.687 |
| 로그P | 10.365 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| 리핑 스키 규칙 일치 | 2 |
| Veber 규칙 구성 요소 | |
| 극 표면적 (PSA) | 34.14 |
| 회전 가능 본드 (RotB) | 10 |
| 일치하는 Veber 규칙 | 2 |
| 패턴 사용 |
| 핵심 기능: 광산 발생기(PAG) |
| 빛을 흡수하고 광분해를 통해 분해됩니다. |
| 강산(디플루오로메탄설폰산)을 생성합니다. 생성된 산은 화학적으로 증폭되는 반응을 촉매하거나 후속적인 양이온 중합 반응을 개시할 수 있습니다. 이는 포토레지스트 및 양이온 광중합체 경화 시스템에서 핵심적인 기능성 첨가제입니다. II. 주요 적용 분야 1. 반도체 포토레지스트(화학 증폭 포토레지스트, CAR) 적용하기 : i-line, KrF 및 ArF 리소그래피 시스템 고해상도 화학 증폭 포토레지스트 주요 기능 : 노출 시 산 생성 탈보호 반응을 촉매합니다. 노출 효과를 증폭시켜 해상도, 감도 및 임계 치수/선 가장자리 거칠기(CD/LER) 제어를 향상시킵니다. 아다만틸 구조의 장점: 높은 열 안정성을 제공합니다 산 확산을 줄여 해상도와 선 가장자리 거칠기를 향상시킵니다. 포토레지스트의 광학적 성능과 제형 안정성을 향상시킵니다. 양이온 광경화 시스템 에폭시 수지 및 비닐 에테르 재료의 자외선 유도 양이온 경화에 사용됩니다. 자외선 조사 → 산 생성 → 양이온 고리 열림 중합 또는 가교 반응 개시 응용 프로그램은 다음과 같습니다. UV 경화 코팅 및 잉크 전자 캡슐화 재료 광패턴화 가능한 절연층(예: PSPI, PI) |
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