트리페닐술포늄(3-히드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트 CAS#: 912290-04-1; ChemWhat 코드 : 1491734

식별물리적 데이터스펙트럼
Route of Synthesis (ROS)안전과 위험기타 데이터

식별

제품명트리페닐술포늄(3-하이드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트
IUPAC 이름1,1-difluoro-2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)methoxy]-2-oxoethanesulfonate;triphenylsulfanium
분자 구조트리페닐술포늄(3-히드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트의 구조 CAS 912290-04-1
CAS 레지스트리 번호 912290-04-1
EINECS 번호자료 없음
MDL 번호자료 없음
Beilstein 레지스트리 번호자료 없음
동의어트리페닐술포늄 1-((3-하이드록시-1-아다만틸)메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트디플루오로-(3-하이드록시-아다만탄-1-일메톡시카르보닐)메탄술폰산-트리페닐술포늄염트리페닐술포늄 1-((3-하이드록시아다만틸)메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트
분자식C31H32F2O6S2
분자 무게602.7
InChIInChI=1S/C18H15S.C13H18F2O6S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,22(18,19)20)10(16)21-7-11-2-8-1-9(3-11)5-12(17,4-8)6-11/h1-15H;8-9,17H,1-7H2,(H,18,19,20)/q+1;/p-1
InChI 키MMTQYTFKDNOQOV-UHFFFAOYSA-M
교회법에 의거 한 SMILESC1C2CC3(CC1CC(C2)(C3)O)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3
특허 정보
특허 IDTitle발행일
US2016 / 168115염, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 생성 방법2016
JP2018 / 145179염, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 생성 방법2018

물리적 데이터

외관백색에서 미색 분말
용해도자료 없음
인화점자료 없음
굴절률자료 없음
감도자료 없음
온도 (용해도 (MCS)), ° C용매 (용해도 (MCS))의견 (용해도 (MCS))
프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트에 1% 농도로 불용성; 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르; 2-헵타논; n-부틸 아세테이트
23초산 에틸용해도: 2 중량%

스펙트럼

설명 (NMR 분광법)핵 (NMR 분광학)용제 (NMR 분광법)주파수 (NMR 분광법), MHz원문 (NMR Spectroscopy)
화학적 이동, 스펙트럼1H디메틸 술폭 시드 -d6400
1H디메틸 술폭 시드 -d61B2(디메틸설폭사이드-d)의 H-NMR 데이터6(내부 표준물질: 테트라메틸실란): d(ppm) 1.38-1.51(m, 12H); 2.07(S, 2H); 3.85(s, 2H); 4.41(s, 1H); 7.75-7.89(m, 15H)
설명 (대량 분석)주석 (대량 분석)피크 (캐노피 지붕쪽)
ESI (Electrospray ionisation), LCMS (액체 크로마토 그래피 질량 분석법)분자 피크263.07m / z
ESI (Electrospray ionisation), LCMS (액체 크로마토 그래피 질량 분석법)분자 피크339.10m / z
설명 (UV / VIS 분광법)
스펙트럼

Route of Synthesis (ROS)

트리페닐술포늄(3-히드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트 CAS# 912290-04-1의 합성 경로(ROS)
트리페닐술포늄(3-히드록시트리시클로[3.3.1.13,7]데칸-1-메톡시카르보닐)디플루오로메탄술포네이트의 합성 경로(ROS) CAS#: 912290-04-1
상태수율
수산화리튬 일수화물 용액에서 20℃로 2시간 동안 반응시켰습니다.94.8%
수산화리튬 일수화물 용액, 아세토니트릴 용매, 23℃, 15시간 반응;92%
클로로포름 용액에서 수산화리튬 일수화물을 15시간 동안 반응시켰습니다.23%

안전과 위험

픽토그램부식두개골
신호위험
GHS 유해성 정보H301 (100 %) : 삼키면 유독 함 [위험 : 급성 독성, 구강]
H314 (94.7 %) : 심한 피부 화상과 눈 손상을 일으킴 [위험 피부 부식성 또는 자극성]
H318 (100 %) : 눈에 심한 손상을 일으킴 [위험 눈 심각한 손상 / 눈 자극]
불순물, 첨가제 및 기타 요인에 따라 알림마다 정보가 다를 수 있습니다.
사전 진술서 코드P260, P264, P264+P265, P270, P280, P301+P316, P301+P330+P331, P302+P361+P354, P304+P340, P305+P354+P338, P316, P317, P321, P330, P363, P405, P501
(각 P 코드에 해당하는 설명은 GHS 분류 페이지를 참조하십시오.)

기타 데이터

운송모든 운송 모드에 대한 NONH
실온에서 그리고 빛으로부터 멀리
HS 코드자료 없음
스토리지실온에서 그리고 빛으로부터 멀리
유통 기한저희 가족은 2년 이상 프리미엄 한식 BBQ용 고기만을 전문으로 다뤄왔습니다. 로스앤젤레스에서 최고 평점을 받은 정육점으로서 쌓아온 경험과 신뢰를 바탕으로, 한식 BBQ의 진정한 맛과 정성을 고객님께 전하고 있습니다. 모든 고기에는 세대를 이어온 정성과 열정이 담겨 있으며, 단순한 음식이 아닌 저희의 정체성을 보여줍니다.
시장 가격USD
약물 유사성
리핀 스키 규칙 구성 요소
분자 무게602.72
로그P6.588
HBA6
HBD1
리핑 스키 규칙 일치2
Veber 규칙 구성 요소
극 표면적 (PSA)112.11
회전 가능 본드 (RotB)8
일치하는 Veber 규칙2
패턴 사용
핵심 기능: 광산 발생기(PAG)
빛을 흡수하고 광분해를 통해 분해됩니다.
강산(디플루오로메탄설폰산)을 생성합니다.
생성된 산은 화학적으로 증폭되는 반응을 촉매하거나 후속적인 양이온 중합 반응을 개시할 수 있습니다. 이는 포토레지스트 및 양이온 광중합체 경화 시스템에서 핵심적인 기능성 첨가제입니다.
II. 주요 적용 분야
1. 반도체 포토레지스트(화학 증폭 포토레지스트, CAR)
적용하기 :
i-line, KrF 및 ArF 리소그래피 시스템
고해상도 화학 증폭 포토레지스트
주요 기능 :
노출 시 산 생성
탈보호 반응을 촉매합니다.
노출 효과를 증폭시켜 해상도, 감도 및 임계 치수/선 가장자리 거칠기(CD/LER) 제어를 향상시킵니다.
아다만틸 구조의 장점:
높은 열 안정성을 제공합니다
산 확산을 줄여 해상도와 선 가장자리 거칠기를 향상시킵니다.
포토레지스트의 광학적 성능과 제형 안정성을 향상시킵니다.
양이온 광경화 시스템
에폭시 수지 및 비닐 에테르 재료의 자외선 유도 양이온 경화에 사용됩니다.
자외선 조사 → 산 생성 → 양이온 고리 열림 중합 또는 가교 반응 개시
응용 프로그램은 다음과 같습니다.
UV 경화 코팅 및 잉크
전자 캡슐화 재료
광패턴화 가능한 절연층(예: PSPI, PI)

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